本論文では、生成対抗ネットワーク(GAN)の最適化問題について分析を行っている。
まず、GANの最適化では生成器の分布が目標分布に近づくことが保証されていないことを指摘する。そこで、生成器の分布と目標分布の距離を保証する十分条件として、方向最適性、分離可能性、単射性の3つの条件を導出する。
これらの条件を満たすことで、ディスクリミネータが生成器分布と目標分布の距離を表すことが示される。さらに、これらの条件を満たすように、既存のGANモデルを簡単に変更できる新しいモデル「Slicing Adversarial Network (SAN)」を提案する。
実験では、SANがGANよりも合成データや画像生成タスクで優れた性能を示すことを確認している。特に、最先端のStyleGAN-XLモデルにSANを適用することで、CIFAR10とImageNet 256x256での生成性能が向上している。
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